دانلود مقاله تعیین خواص فیلم اکسیدی بر روی سطح مولیبدن

خرید این محصول:

پس از پرداخت لینک دانلود برای شما نمایش داده می شود.

5000 تومان – خرید

چکیده

ریزساختار فیلم‌های اکسیدی با ضخامت ۲۰ تا ۳۰ نانومتر بر روی سطح مولیبدن توسط یک میکروسکوپ یونی میدان پروب اتمی بررسی شده است. آنالیز کمّی پروب اتمی نشان داد که اکسید نااستوکیومتری است ولی می‌توان آن را به دو ناحیه با ترکیبات به ترتیب MoO2.40 و MoO1.75 تقسیم کرد. تصاویر میدان یونی آشکار ساخت که بیشتر اکسید شبه آمورف است ولی برخی نواحی منظم در ساختار نیز وجود دارد. معلوم شد که فصل مشترک اکسید-فلز نسبتاً واضح است.

مقدمه

اکسیدهای سطحی در بسیاری از سطوح مهم از نظر فناوری و فرآیندهای فصل مشترکی مخصوصاً در واکنش‌های خوردگی و کاتالیستی نقش برجسته‌ای ایفا می‌کنند. برای جوانه‌زنی و رشد لایه‌ی اکسیدی، جرم و بار باید در امتداد لایه‌ی اکسیدی منتقل شوند. همچنین، یک واکنش فصل مشترکی باید در مرز بین فازی فلز-اکسید و اکسید-اکسیژن رخ دهد. داشتن اطلاعات در مورد پروفایل ترکیب، ساختار و طبیعت معیوب ترکیبات سطحی برای روشن‌سازی مکانیزم اکسیداسیون فلزات ضروری است.

انتخاب مولیبدن به عنوان زیرلایه به دلیل خواص مکانیکی بسیار جذاب آن در دماهای بالایی بود که توسط آلیاژهای مقاوم در برابر خزش مرسوم پوشش داده می‌شود [۲] و نیز این واقعیت که اکسید مولیبدن یک کاتالیست آلی برای اکسیداسیون جزئی مولکول‌های آلی می‌باشد [۳]. اندرکنش اکسیژن با سطح مولیبدن تاکنون موضوع مطالعات زیادی توسط روش‌های علمی سطح مختلف بوده است [۴-۶]. با این وجود، سوالات بدون پاسخ زیادی باقی می‌ماند که عمدتاً به خاطر تفاوت بین داده‌های تجربی از محققان مختلف یا به خاطر تفسیرهای آن‌ها بوجود آمده است. در این مقاله ما یک تحقیق میکروسکوپ یونی میدان پروب اتمی (APFIM) بر روی فیلم‌های اکسیدی رشد یافته بر روی زیرلایه‌ی مولیبدن گزارش می‌کنیم و امیدواریم اطلاعات بیشتری در مورد ریزساختار اکسیدها بدست آوریم چون این روش این مزیت را دارد که اجازه می‌دهد پروفایل ترکیبی به صورت لایه به لایه در یک مقیاس اتمی و با یک روش کمّی …

تعداد صفحات: ۶ صفحه پی‌دی‌اف انگلیسی + فایل ورد ترجمه فارسی

سال انتشار:  ۱۹۸۹

پاسخ دهید